エックス線の直接作用と間接作用に関する次の記述のうち、正しいものはどれか。…

　　　　　　　　　　　→　不活性化される割合が増える →　酵素が濃い　→　ラジカルが分散 　　　　　　　　　　　→　割合が減る これが希釈効果です。濃度によって割合が変わるのは、間接作用の証拠になります。 【この設問の組み立て】 (5)は、その裏返しを述べています。直接作用なら濃度によらない。だから、濃度で変わる分は間接作用だと分かるのです。 【ほかの選択肢】 (1) ラジカルが生体高分子に損傷を与えるのは間接作用。 　　「直接作用」は誤り (2) 二次電子が生体高分子の電離又は励起を行うのは直接作用。 　　「間接作用」は誤り (3) 低ＬＥＴ放射線では、間接作用によるもののほうが大きい (4) ＳＨ基をもつ化合物で効果が軽減されるのは、間接作用に 　　より説明される 【(1)と(2)が入れ替わっている】 水分子が出てきたら間接作用 生体高分子に直接なら直接作用 二つの定義を、そっくり入れ替えた記述です。 【(3)が誤りなわけ】 人体の約60～70％が水 放射線が体を通るとき、出会う確率が高いのは水分子です。低ＬＥＴ放射線（エックス線、ガンマ線）では、間接作用が主になります。 【(4)が誤りなわけ】 ＳＨ基をもつ物質は、ラジカルを先に捕まえてしまう 生体高分子に届く前に、ラジカルを消してしまいます。間接作用だからこそ、途中で邪魔ができるのです。直接作用なら、間に割って入る余地がありません。 【三つの効果はすべて間接作用の証拠】 温度効果・酸素効果・希釈効果